Abstandsmessung bei 4 Kelvin

Bei der Rasterkraftmikroskopie werden Positioniereinheiten verwendet, um für Oberflächentopographien die Probe bewegen zu können. Der Sensorkopf des Mikroskopes wird dabei mit flüssigem Helium auf vier Kelvin gekühlt. Zur Überwachung der Positioniereinheiten werden kapazitive Sensoren der Serie capaNCDT 6300 verwendet. Die besonders flache Bauform ermöglicht den Einsatz bei dem beengten Einbauraum. Spezielle Materialien mit sehr geringer thermischen Dehnung ermöglichen Nanometerpräzision.