Weißlicht-Interferometer zur Masken-Positionierung in der Lithografie

Im Lithografieprozess ist eine hochauflösende und langzeitstabile Messung von Maschinenbewegungen erforderlich, um maximale Präzision zu erzielen. Dank spezieller Auswertealgorithmen und der aktiven Temperaturkompensation ermöglicht das Weißlicht-Interferometer IMS5400 von Micro-Epsilon die nanometergenaue Positionierung der Masken. Vakuumtaugliche Sensoren, Kabel und Kabeldurchführung erlauben den Einsatz im Vakuumumgebungen.