Nanometergenaue Positionierung in Lithografiemaschinen

Zur Belichtung einzelner Bauelemente auf dem Wafer werden diese über Waferstages an die jeweilige Position bewegt. Um die nanometergenaue Positionierung zu ermöglichen, messen kapazitive Wegsensoren sowie Wirbelstromsensoren die Position des Verfahrweges. Die vakuumtauglichen Sensoren erzielen eine Auflösung im Subnanometerbereich und sind dank innovativem Aufbau unempfindlich bei elektromagnetischen Feldern.